Développement des procédés de gravure pour les nœuds avancés utilisant des techniques SADP

CEA; Grenoble; Sur place; EUR 20 000 - 40 000; Plein temps

Résumé du poste

Une institution de recherche en France propose une thèse sur la miniaturisation des composants électroniques. Le candidat développera des procédés innovants de gravure et explorera de nouveaux matériaux pour des transistors. Nous recherchons un étudiant avec un master ou diplômes similaires en physique ou nanotechnologies. Ce poste est basé à Grenoble et disponible à partir du 01/10/2025.

Qualifications

• Compétences en gravure et en traitement de signal sont requises.
• Capacité à développer et tester des matériaux innovants.
• Veille technologique sur les matériaux et l'intégration industrielle.

Responsabilités

• Développer des procédés innovants de gravure.
• Identifier les verrous technologiques et proposer des solutions.
• Mettre en place un protocole de caractérisation fiable.

Connaissances

Contrôle de gravure

SADP

Nanotechnologies

Formation

Master ou école d'ingénieur en physique, matériaux ou nanotechnologies

Description du poste

Description de l'offre

La miniaturisation des composants électroniques impose le développement de nouveaux procédés, car la lithographie immersion 193nm seule ne permet plus d'atteindre les dimensions demandées pour les nœuds technologiques les plus avancés (sub-10nm). Depuis des années, des stratégies complémentaires à la lithographie se sont développées. Ici, nous étudierons la technique de Self-Aligned Double Patterning (SADP), qui divise par deux le pas du réseau des motifs lithographiés initialement. Cette technique repose sur un dépôt conforme de diélectrique (espaceur) de part et d'autre des motifs initiaux (mandrel). Ces espaceurs serviront ensuite de masque de gravure pour l'obtention des motifs finaux. Les faibles dimensions recherchées imposent un contrôle parfait des procédés de gravure. Or cette étape altère les matériaux déposés conduisant à une perte des dimensions. Un des grands enjeux sera de maîtriser la gravure et donc la modification des matériaux utilisés pour satisfaire les spécifications recherchées (largeur des motifs, profil de gravure, consommation des couches d'arrêt, uniformité, vitesse de gravure...). Un des objectifs sera aussi de proposer des approches SADP alternatives permettant de générer différents types de motifs sur la plaque pour réaliser des transistors planaires FDSOI, ce qui est peu répandu actuellement dans la littérature.

Les défis de cette thèse ? Développer des procédés innovants de gravure; Explorer de nouveaux couples de matériaux (espaceur/mandrel) et proposer in-fine une solution d'intégration industrielle qui pourra être validée électriquement; Identifier les possibles verrous technologiques et proposer des solutions pour les contourner; Mettre en place un protocole de caractérisation fiable détectant les modifications physico-chimiques des matériaux en présence et la dimension des motifs finaux.

Université / école doctorale

Université / école doctorale
Electronique, Electrotechnique, Automatique, Traitement du Signal (EEATS)
Université Grenoble Alpes

Localisation du sujet de thèse

Site
Grenoble

Candidature

• Formation recommandée: master ou d'une école d'ingénieur en physique, matériaux ou nanotechnologies
• Demandeur:
• Disponibilité du poste: 01/10/2025

Contacts

• Personne à contacter par le candidat: PIMENTA-BARROS Patricia [e-mail]
  CEA
  DRT/DPFT/LGRA
  CEA-Grenoble
  17 rue des Martyrs
  38054 GRENOBLE CEDEX
  04.38.78.16.19
• Tuteur / Responsable de thèse: FENOULLET-BERANGER Claire [e-mail]
  CEA
  DRT/DPFT
  CEA-Grenoble
  17 rue des Martyrs
  38054 GRENOBLE CEDEX
  04 38 78 56 77

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