Activez les alertes d’offres d’emploi par e-mail !

Développement d'un flow de data préparation de lithographique 3D pour le dessin du masque freeform

CEA

Grenoble

Sur place

EUR 20 000 - 40 000

Plein temps

Aujourd’hui
Soyez parmi les premiers à postuler

Résumé du poste

Une organisation de recherche technologique propose une thèse à Grenoble sur le développement d'un flux de préparation de données lithographiques 3D. Les candidats doivent avoir un M2 en physique, optique, ou nanoscience. Ce sujet est essentiel pour améliorer les technologies de lithographie utilisées dans l'industrie optoélectronique.

Qualifications

  • Formation recommandée en M2 et école ingénieur en physique, optique, ou nanoscience.

Responsabilités

  • Améliorer la compréhension du modèle de lithographie grayscale.
  • Optimiser le flux de données pour la préparation de masques.

Connaissances

Physique
Optique
Nanoscience

Formation

M2 en physique, optique, ou nanoscience
Description du poste
Description du sujet

Description du sujet de thèse

Domaine

Défis technologiques

Sujets de thèse

Développement d'un flow de data préparation de lithographique 3D pour le dessin du masque freeform

Contrat

Thèse

Description de l'offre

Avec l'avancement des technologies optoélectroniques, notamment des imageurs et AR/VR, des géométries 3D de dimensions sub-micrométriques sont plus en plus demandées par les clients industriels. Pour fabriquer ces structures 3D, la lithographie "grayscale" avec UV profond (248nm ou 193nm) est une technologie prometteuse compatible avec la production industrielle. Par contre, la maîtrise de cette technologie est complexe et nécessite un modèle de lithographie (optique + résine) avancé pour prédire le dessin du masque optique utilisé. La thèse permettra d'améliorer notre compréhension de notre model lithographie grayscale et ses limite, ayant pour d'améliorer et d'optimiser la model et la flow de data préparation ou masque design pour diminuer l'ecart entre simulation et pattern fabriquée. Masque freeform poussera les limites de lithographie grayscale pour attendre de pitch plus agressive souhaiter pour l'application optique et optoélectronique.

Université / école doctorale

Electronique, Electrotechnique, Automatique, Traitement du Signal (EEATS) – Université Grenoble Alpes

Localisation du sujet de thèse

Site: Grenoble

Critères candidat

Formation recommandée

  • M2 et école ingénieur en physique, optique, ou nanoscience
Demandeur

Disponibilité du poste: 01/10/2025

Personne à contacter par le candidat

PALANCHOKE UJWOL ujwol.palanchoke@cea.fr
CEA
DRT/DPFT//LPAC
CEA-Leti
17 Av. des Martyrs, 38054 Grenoble
0438789663

Tuteur / Responsable de thèse

GOURGON Cécile cecile.gourgon@cea.fr
CNRS - Plato
DRT/LETI/DCOS/LTM
CEA-LETI, MINATEC-Campus, 17 rue des Martyrs, 38054 GRENOBLE Cedex 9
FRANCE
04.38.78.98.37

En savoir plus

https://www.leti-cea.com/cea-tech/leti/english/Pages/Welcome.aspx
https://ltm.univ-grenoble-alpes.fr/

Obtenez votre examen gratuit et confidentiel de votre CV.
ou faites glisser et déposez un fichier PDF, DOC, DOCX, ODT ou PAGES jusqu’à 5 Mo.