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Une organisation de recherche technologique propose une thèse à Grenoble sur le développement d'un flux de préparation de données lithographiques 3D. Les candidats doivent avoir un M2 en physique, optique, ou nanoscience. Ce sujet est essentiel pour améliorer les technologies de lithographie utilisées dans l'industrie optoélectronique.
Description du sujet de thèse
Défis technologiques
Développement d'un flow de data préparation de lithographique 3D pour le dessin du masque freeform
Thèse
Avec l'avancement des technologies optoélectroniques, notamment des imageurs et AR/VR, des géométries 3D de dimensions sub-micrométriques sont plus en plus demandées par les clients industriels. Pour fabriquer ces structures 3D, la lithographie "grayscale" avec UV profond (248nm ou 193nm) est une technologie prometteuse compatible avec la production industrielle. Par contre, la maîtrise de cette technologie est complexe et nécessite un modèle de lithographie (optique + résine) avancé pour prédire le dessin du masque optique utilisé. La thèse permettra d'améliorer notre compréhension de notre model lithographie grayscale et ses limite, ayant pour d'améliorer et d'optimiser la model et la flow de data préparation ou masque design pour diminuer l'ecart entre simulation et pattern fabriquée. Masque freeform poussera les limites de lithographie grayscale pour attendre de pitch plus agressive souhaiter pour l'application optique et optoélectronique.
Electronique, Electrotechnique, Automatique, Traitement du Signal (EEATS) – Université Grenoble Alpes
Site: Grenoble
Formation recommandée
Disponibilité du poste: 01/10/2025
PALANCHOKE UJWOL ujwol.palanchoke@cea.fr
CEA
DRT/DPFT//LPAC
CEA-Leti
17 Av. des Martyrs, 38054 Grenoble
0438789663
GOURGON Cécile cecile.gourgon@cea.fr
CNRS - Plato
DRT/LETI/DCOS/LTM
CEA-LETI, MINATEC-Campus, 17 rue des Martyrs, 38054 GRENOBLE Cedex 9
FRANCE
04.38.78.98.37
https://www.leti-cea.com/cea-tech/leti/english/Pages/Welcome.aspx
https://ltm.univ-grenoble-alpes.fr/