Masterarbeit: Direkte Nanostrukturierung von Photoresists mit tief-ultravioletter Laserstrahlung

Fraunhofer-Gesellschaft; Aachen; Vor Ort; EUR 30.000 - 50.000; Vollzeit

Zusammenfassung

Ein führendes Forschungsinstitut in der Lasertechnik bietet eine spannende Möglichkeit zur Masterarbeit. Du wirst an innovativen Technologien arbeiten, die die Effizienz und Umweltfreundlichkeit in der Mikrochipherstellung verbessern. In einem kreativen, interdisziplinären Team hast du die Chance, neue Prozesse zu entwickeln und bestehende zu optimieren. Die Stelle ist bis zur Beendigung der Abschlussarbeit befristet und bietet flexible Arbeitszeiten sowie eine exzellente Ausstattung. Wenn du eine Leidenschaft für Lasertechnik und Nanotechnologie hast, freuen wir uns auf deine Bewerbung!

Leistungen

Flexibles Arbeiten

Exzellente Ausstattung

Kreatives Umfeld

Corporate Benefits

Gute Verkehrsanbindung

Qualifikationen

• Studium in Maschinenbau, Physik oder Materialwissenschaften erforderlich.
• Interesse an Lasern und Nanotechnologie ist wichtig.

Aufgaben

• Forschung zur Direktablation von photoaktiven Schichten.
• Dokumentation und Präsentation der Ergebnisse.

Kenntnisse

Interesse an Lasern

Nanotechnologie

Entwicklung neuer Prozesse

Erfahrungen in Lasertechnik

Erfahrungen in Halbleitertechnik

Ausbildung

Studium Maschinenbau

Studium Physik

Studium Materialwissenschaften

Studium Informationstechnik

Tools

Lasertechnik

Phasenmasken

Jobbeschreibung

Der Lehrstuhl für Lasertechnik LLT der RWTH Aachen University ist zusammen mit dem kooperierenden Fraunhofer-Institut für Lasertechnik ILT Europas führendes Zentrum für Grundlagen- und Auftragsforschung im Bereich der Lasertechnik. Wir bieten Dir die Möglichkeit einer Masterarbeit zum Thema "Direkte Nanostrukturierung von Photoresists mit tief-ultravioletter (DUV) Laserstrahlung".

Die Gruppe In-Volumen Strukturierung und Lithografie befasst sich schwerpunktmäßig mit der Strukturierung transparenter Materialien und Halbleitern mit gepulster Laserstrahlung, deren Pulsdauer im Femto- bis Nanosekundenbereich liegt. Durch die Verwendung von Laserwellenlängen im tief-ultravioletten Bereich (150-300 nm) können Strukturgrößen im Bereich von wenigen hundert Nanometern erzeugt werden, die beispielsweise für die Halbleiterindustrie, die Medizintechnik oder die Optikindustrie Verwendung finden. Dabei wird es immer wichtiger, die Prozesse effizienter und umweltfreundlicher zu gestalten. Ein direkter, chemiefreier Photoresistabtrag kann dazu einen wesentlichen Beitrag leisten.

Was Du bei uns tust

• Du erforschst die Direktablation von photoaktiven Schichten für mehr Qualität und Effizienz.
• Dabei trägst Du zur Energieeinsparung und Umweltfreundlichkeit in der Mikrochipherstellung bei.
• Das Einsetzen innovativer Technologien wie kurzwellige Laser und hochauflösende Phasenmasken gehört zu Deinen Aufgaben.
• Du dokumentierst, diskutierst und präsentierst die Ergebnisse.

Was Du mitbringst

• Du studierst Maschinenbau, Physik, Materialwissenschaften, Informationstechnik oder einen vergleichbaren Studiengang.
• Bei Dir besteht ein Interesse an Lasern, Nanotechnologie und der Fertigung komplexer Bauteile.
• Es macht Dir Spaß, neue Prozesse zu entwickeln und bestehende zu verbessern.
• Erste Erfahrungen im Bereich Lasertechnik und Halbleitertechnik sind wünschenswert, aber kein Muss.

Was Du erwarten kannst

Teamspirit: Kreatives, interdisziplinäres Umfeld mit motiviertem Team, flachen Hierarchien und Du-Kultur.
Arbeitsplatz: Exzellente Ausstattung an Maschinen und Geräten sowie eine erstklassige Büroausstattung.
Mitgestaltung: Praxisorientierte Abschlussarbeit in einem innovativen Umfeld der angewandten Forschung.
️ Work-Life-Balance: Profitiere von flexiblen Arbeitszeiten auf Vertrauensbasis.
Vorteile: Möglichkeit von spannenden Corporate Benefits zu profitieren.
Anreise: Eine gute Verkehrsanbindung, Stellplätze direkt vor dem Institut, eine E-Ladestation sowie ein Parkhaus.

Die Stelle ist bis zur Beendigung der Abschlussarbeit befristet.

Wir wertschätzen und fördern die Vielfalt der Kompetenzen unserer Mitarbeitenden und begrüßen daher alle Bewerbungen – unabhängig von Alter, Geschlecht, Nationalität, ethnischer und sozialer Herkunft, Religion, Weltanschauung, Behinderung sowie sexueller Orientierung und Identität. Schwerbehinderte Menschen werden bei gleicher Eignung bevorzugt eingestellt.

Interessiert? Dann freuen wir uns auf Deine Bewerbung und darauf, Dich kennenzulernen!
Schon gewusst? Auf unserem LinkedIn-Profil geben wir Dir noch mehr Insights. ️

Fragen zu dieser Position beantwortet Dir gerne
Herr Dr. Serhiy Danylyuk
Telefon [phone]

Fraunhofer-Institut für Lasertechnik ILT

www.ilt.fraunhofer.de

Kennziffer: 78390 Bewerbungsfrist: 30.04.2025