Étude de résines grayscales et optimisation des procédés de lithographie pour des applications [...]

CEA; Grenoble; Sur place; EUR 40 000 - 60 000; Plein temps

Résumé du poste

Un institut de recherche de renommée à Grenoble propose une thèse axée sur l'optimisation des procédés de lithographie et l'étude de résines grayscales. Le candidat rejoindra une équipe dynamique au sein du laboratoire de lithographie et travaillera sur un projet d'état de l'art mondial dans le domaine technologique. Une formation en matériaux ou nanotechnologies est fortement recommandée. Disponibilité à partir du 01/10/2025.

Qualifications

• Maîtrise des concepts en matériaux et nanotechnologies requis.
• Experience en lithographie, optique, ou ingénierie recommandée.

Responsabilités

• Améliorer les résines grayscales et les procédés de lithographie.
• Développer des modèles optiques pour les masques.
• Collaborer avec différentes équipes pour mener à bien la recherche.

Formation

Master 2 ou école d'ingénieurs en matériaux ou nanotechnologies

Description du poste

Description du sujet de thèse

Domain: Défis technologiques

Sujets de thèse

Étude de résines grayscales et optimisation des procédés de lithographie pour des applications optiques sub-microniques

Contrat

Thèse

Description de l'offre

La photolithographie grayscale est un procédé utilisé depuis plusieurs dizaines d'années pour la réalisation de structures tridimensionnelles sur des substrats semiconducteurs, en particulier dans les domaines de l'optique et de l'opto-électronique. Cette technologie permet de réaliser des motifs 3D facilement transférables à l'industrie, grace à l'utilisation d'équipements de lithographie. Après avoir atteint une forte expertise sur la réalisation de structures 3D supérieures au micron grace à l'utilisation d'équipements d'insolation en I-line (365nm), le LETI souhaite développer son expertise grayscale dans l'UV profond (248nm, 193nm et 193nm immersion) afin d'atteindre des motifs submicroniques avec pour objectif l'état de l'art mondial. Cette thèse sera consacrée à l'amélioration des connaissances physico-chimiques des nouvelles résines grayscales, dans le but d'améliorer les performances des procédés de lithographie mais également de prévoir le développement des gravures associées et des nouveaux modèles optiques pour les masques. Vous rejoindrez l'équipe du laboratoire de lithographie du CEA-LETI, et serez également amené à échanger avec d'autres équipes (gravure, simulation optique). Vous aurez accès aux équipements de pointes installés dans les salles blanches, ainsi qu'à une plate-forme de nano-caractérisation pour mener à bien ces travaux de thèse dans une forte dynamique expérimentale.

Université / école doctorale

Electronique, Electrotechnique, Automatique, Traitement du Signal (EEATS)
Université Grenoble Alpes

Localisation du sujet de thèse

Site: Grenoble

Critères candidat

Formation recommandée

Master 2 ou école d'ingénieurs en matériaux ou nanotechnologies

Demandeur

Disponibilité du poste

01/10/2025

Personne à contacter par le candidat

BAZIN Arnaud < email deleted for security reasons >
CEA
DRT/DPFT/SPAT/LLIT
CEA LETI
17 Avenue des Martyrs
38054 Grenoble Cedex 9
04.38.78.34.74

Tuteur / Responsable de thèse

GOURGON Cécile < email deleted for security reasons >
CNRS - Plato
DRT/LETI/DCOS/LTM
CEA-LETI, MINATEC-Campus, 17 rue des Martyrs, 38054 GRENOBLE Cedex 9
FRANCE
04.38.78.98.37

En savoir plus

https://www.youtube.com/watch?v=x2X9yzNFUnY