Étude de résines grayscales et optimisation des procédés de lithographie pour des applications [...]

CEA; Grenoble; Sur place; EUR 40 000 - 60 000; Plein temps

Résumé du poste

Une opportunité passionnante pour un candidat désireux de plonger dans le monde de la photolithographie grayscale. Vous travaillerez sur l'optimisation des procédés de lithographie pour créer des structures 3D sur des substrats semiconducteurs, avec un accent sur le développement de résines grayscales et la recherche de motifs submicroniques. En rejoignant une équipe dynamique au sein d'un laboratoire de pointe, vous aurez accès à des équipements de haute technologie et à une plateforme de nano-caractérisation. Si vous êtes passionné par les matériaux et les nanotechnologies, cette thèse est faite pour vous.

Qualifications

• Connaissances en matériaux et nanotechnologies recommandées.
• Expérience en lithographie et caractérisation à l'échelle nanométrique.

Responsabilités

• Étudier et optimiser les résines grayscales pour la lithographie.
• Améliorer les procédés de lithographie pour des applications sub-microniques.

Formation

Master 2

École d'ingénieurs en matériaux

Nanotechnologies

Description du poste

Description du sujet de thèse

Domaine

Défis technologiques

Sujets de thèse

Étude de résines grayscales et optimisation des procédés de lithographie pour des applications optiques sub-microniques.

Contrat

Thèse

Description de l'offre

La photolithographie grayscale est un procédé utilisé depuis plusieurs dizaines d'années pour la réalisation de structures tridimensionnelles sur des substrats semiconducteurs, en particulier dans les domaines de l'optique et de l'opto-électronique. Cette technologie permet de réaliser des motifs 3D facilement transférables à l'industrie, grâce à l'utilisation d'équipements de lithographie.
Après avoir atteint une forte expertise sur la réalisation de structures 3D supérieures au micron grâce à l'utilisation d'équipements d'insolation en I-line (365nm), le LETI souhaite développer son expertise grayscale dans l'UV profond (248nm, 193nm et 193nm immersion) afin d'atteindre des motifs submicroniques avec pour objectif l'état de l'art mondial.
Cette thèse sera consacrée à l'amélioration des connaissances physico-chimiques des nouvelles résines grayscales, dans le but d'améliorer les performances des procédés de lithographie, mais également de prévoir le développement des gravures associées et des nouveaux modèles optiques pour les masques.
Vous rejoindrez l'équipe du laboratoire de lithographie du CEA-LETI et serez également amené à échanger avec d'autres équipes (gravure, simulation optique). Vous aurez accès aux équipements de pointe installés dans les salles blanches, ainsi qu'à une plate-forme de nano-caractérisation pour mener à bien ces travaux de thèse dans une forte dynamique expérimentale.

Université / école doctorale

Electronique, Electrotechnique, Automatique, Traitement du Signal (EEATS)
Université Grenoble Alpes

Localisation du sujet de thèse

Site

Grenoble

Critères candidat

Formation recommandée

Master 2 ou école d'ingénieurs en matériaux ou nanotechnologies.

Demandeur

Disponibilité du poste

01/10/2025

Personne à contacter par le candidat

BAZIN Arnaud < email supprimé pour raison de sécurité >
CEA
DRT/DPFT/SPAT/LLIT
CEA LETI
17 Avenue des Martyrs
38054 Grenoble Cedex 9
04.38.78.34.74

Tuteur / Responsable de thèse

GOURGON Cécile < email supprimé pour raison de sécurité >
CNRS - Plato
DRT/LETI/DCOS/LTM
CEA-LETI, MINATEC-Campus, 17 rue des Martyrs, 38054 GRENOBLE Cedex 9
FRANCE

04.38.78.98.37

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