Développement des procédés de gravure pour les nœuds avancés utilisant des techniques SADP

CEA; Grenoble; Sur place; EUR 30 000 - 50 000; Plein temps

Résumé du poste

Une opportunité passionnante se présente pour un candidat motivé dans le domaine des nanotechnologies. Cette thèse se concentre sur le développement de procédés de gravure avancés, en utilisant des techniques de Self-Aligned Double Patterning (SADP) pour répondre aux défis de miniaturisation des composants électroniques. Le candidat explorera de nouveaux matériaux et développera des solutions innovantes pour surmonter les obstacles technologiques. Rejoignez un environnement de recherche dynamique à Grenoble, où vous contribuerez à des avancées significatives dans le domaine de l'électronique et des matériaux. Si vous êtes passionné par la recherche et l'innovation, cette thèse est faite pour vous.

Qualifications

• Formation recommandée : master ou école d'ingénieur en physique, matériaux ou nanotechnologies.
• Expérience en développement de procédés innovants de gravure nécessaire.

Responsabilités

• Développer des procédés innovants de gravure pour des nœuds technologiques avancés.
• Mettre en place un protocole de caractérisation fiable des matériaux.

Connaissances

Développement de procédés de gravure

Contrôle des procédés de gravure

Caractérisation des matériaux

Techniques de lithographie

Nanotechnologies

Formation

Master en physique

Diplôme d'ingénieur en matériaux

Diplôme d'ingénieur en nanotechnologies

Description du poste

Description du sujet de thèse

Domaine
Défis technologiques

Sujets de thèse
Développement des procédés de gravure pour les nœuds avancés utilisant des techniques SADP

Contrat
Thèse

Description de l'offre
La miniaturisation des composants électroniques impose le développement de nouveaux procédés, car la lithographie immersion 193nm seule ne permet plus d'atteindre les dimensions demandées pour les nœuds technologiques les plus avancés (sub-10nm). Depuis des années, des stratégies complémentaires à la lithographie se sont développées. Ici, nous étudierons la technique de "Self-Aligned Double Patterning" (SADP), qui divise par deux le pas du réseau des motifs lithographiés initialement. Cette technique repose sur un dépôt conforme de diélectrique (espaceur) de part et d'autre des motifs initiaux (mandrel). Ces espaceurs serviront ensuite de masque de gravure pour l'obtention des motifs finaux. Les faibles dimensions recherchées imposent un contrôle parfait des procédés de gravure. Or cette étape altère les matériaux déposés conduisant à une perte des dimensions. Un des grands enjeux sera de maîtriser la gravure et donc la modification des matériaux utilisés pour satisfaire les spécifications recherchées (largeur des motifs, profil de gravure, consommation des couches d'arrêt, uniformité, vitesse de gravure...). Un des objectifs sera aussi de proposer des approches SADP alternatives permettant de générer différents types de motifs sur la plaque pour réaliser des transistors planaires FDSOI, ce qui est peu répandu actuellement dans la littérature.

Les défis de cette thèse ?

1. Développer des procédés innovants de gravure
2. Explorer de nouveaux couples de matériaux (espaceur/mandrel) et proposer in-fine une solution d'intégration industrielle qui pourra être validée électriquement.
3. Identifier les possibles verrous technologiques et proposer des solutions pour les contourner
4. Mettre en place un protocole de caractérisation fiable détectant les modifications physico-chimiques des matériaux en présence et la dimension des motifs finaux

Université / école doctorale
Electronique, Electrotechnique, Automatique, Traitement du Signal (EEATS)
Université Grenoble Alpes

Localisation du sujet de thèse
Site
Grenoble

Critères candidat
Formation recommandée
master ou d'une école d'ingénieur en physique, matériaux ou nanotechnologies

Demandeur
Disponibilité du poste
01/10/2025

Personne à contacter par le candidat
PIMENTA-BARROS Patricia [e-mail]
CEA
DRT/DPFT/LGRA
CEA-Grenoble
17 rue des Martyrs
38054 GRENOBLE CEDEX
04.38.78.16.19

Tuteur / Responsable de thèse
FENOULLET-BERANGER Claire [e-mail]
CEA
DRT/DPFT
CEA-Grenoble
17 rue des Martyrs
38054 GRENOBLE CEDEX
04 38 78 56 77

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