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Un institut de recherche renommé en France recherche un(e) chercheur(se) postdoctoral(e) pour un projet sur les cellules solaires tandem GaAs/Si. Vous participerez à des recherches innovantes visant à développer une technologie photovoltaïque performante. Ce poste nécessite un doctorat et une expérience dans le domaine des semi-conducteurs. La rémunération est compétitive et le travail se déroulera à Palaiseau.
Date Limite Candidature : mercredi 22 octobre 2025 23:59:00 heure de Paris
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Intitulé de l'offre : Post-doctorat (H/F) prématuration CNRS: Fabrication et ingénierie de cellules solaires tandem GaAs/Si utilisant un procédé CVD plasma
Nous recherchons un(e) chercheur(se) postdoctoral(e) hautement motivé(e) pour rejoindre notre équipe au LPICM, une unité mixte entre le CNRS et l’École Polytechnique, dans le cadre d’un programme de « prématuration » visant à explorer une recherche originale pouvant mener à un projet de startup.
Ce projet porte sur le développement de cellules solaires tandem III-V/Si à haut rendement, en intégrant des couches d’arséniure de gallium (GaAs) sur des substrats de silicium cristallin (c-Si) à faible coût et abondants.
Il vise à relever ces défis en explorant la croissance épitaxiale de fines couches de GaAs, grâce à une technique épitaxiale originale et à faible coût, sur des substrats en c-Si en utilisant une couche tampon intermédiaire spécifique permettant de compenser le désaccord de maille tout en exploiter activement le Si comme cellule inférieure.
Le/la candidat(e) participera au dépôt et à l’optimisation du GaAs, à son dopage, aux aspects de passivation/contacts ainsi qu’à l’ingénierie des interfaces. À terme, nous visons la fabrication d’un premier démonstrateur de cellule solaire tandem GaAs/Si, offrant une alternative viable à la technologie photovoltaïque au silicium simple jonction, avec un potentiel de performance supérieur.
Ce projet porte sur le développement de cellules solaires tandem III-V/Si à haut rendement en intégrant des couches d’arséniure de gallium (GaAs) sur des substrats en silicium cristallin (c-Si) peu coûteux et abondants.
Les cellules solaires GaAs actuelles à hautes performances sont généralement fabriquées par croissance épitaxiale sur des substrats accordés au réseau cristallin tels que le c-GaAs ou le c-Ge. Cependant, le coût élevé des techniques de croissance conventionnelles ainsi que celui de ces substrats constitue un frein majeur au déploiement à grande échelle des technologies photovoltaïques III-V.
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