Post-doctorat (H/F) ANR GASPE: Croissance plasma de semi-conducteurs à large bande interdite : [...]

CNRS; Palaiseau; Sur place; EUR 40 000 - 60 000; Plein temps

Résumé du poste

Un institut de recherche en Île-de-France recherche un chercheur postdoctoral pour rejoindre une équipe sur un projet avancé de synthèse de semi-conducteurs. Le candidat doit avoir un doctorat en physique des plasmas et une expérience en intelligence artificielle. Ce poste implique des recherches sur le dépôt de couches minces par plasma, avec un fort accent sur l'optimisation des processus par le biais de diagnostics avancés et modélisation de données.

Qualifications

• Doctorat requis dans un domaine lié.
• Expérience dans le dépôt de couches minces par plasma.
• Compétences en traitement du signal et analyse de données appréciées.

Responsabilités

• Développer une compréhension et un contrôle des procédés de dépôt assistés par plasma.
• Utiliser des outils de diagnostic avancés, comme la spectroscopie térahertz.
• Développer des approches basées sur l'intelligence artificielle pour l'optimisation des procédés.

Connaissances

Doctorat en physique des plasmas

Expérience dans le dépôt de couches minces par plasma

Connaissance des diagnostics spectroscopiques

Intérêt pour l'intelligence artificielle

Autonomie et motivation

Formation

Doctorat en physique des plasmas ou science des matériaux

Description du poste

Post-doctorat (H/F) ANR GASPE: Croissance plasma de semi-conducteurs à large bande interdite : diagnostic Térahertz et optimisation par intelligence artificielle

Date limite de candidature : lundi 10 novembre 2025 23:59:00 heure de Paris.

Informations générales

• Intitulé de l'offre : Post-doctorat (H/F) ANR GASPE: Croissance plasma de semi-conducteurs à large bande interdite : diagnostic Térahertz et optimisation par intelligence artificielle
• Référence : UMR7647-KAROUA-002
• Nombre de postes : 1
• Lieu de travail : PALAISEAU
• Date de publication : lundi 20 octobre 2025
• Type de contrat : Chercheur en contrat CDD
• Durée du contrat : 12 mois
• Date d'embauche prévue : 5 janvier 2026
• Quotité de travail : Complet
• Rémunération : 3081,33 € à 3519,85
• Niveau d'études souhaité : Doctorat
• Expérience souhaitée : 1 à 4 années
• Section(s) CN : 10 - Milieux fluides et réactifs : transports, transferts, procédés de transformation

Missions et activités

Nous recherchons un(e) chercheur(se) postdoctoral(e) pour rejoindre notre équipe au LPICM, un laboratoire commun CNRS–École Polytechnique, dans le cadre du projet ANR GASPE associant diagnostics avancés et intelligence artificielle pour la synthèse de semi-conducteurs à large bande interdite. L’objectif du projet est de développer une nouvelle compréhension et un meilleur contrôle des procédés de dépôt assistés par plasma pour des matériaux tels que GaN, AlN et Ga₂O₃, déposés à basse température.

Le postdoctorant se concentrera sur le couplage d’outils de diagnostic in situ avancés, en particulier la spectroscopie térahertz, afin de sonder à la fois le plasma et les couches minces. Ces diagnostics permettront d’extraire des paramètres clés du plasma tels que la densité électronique et la densité moléculaire, ainsi que des paramètres des matériaux, offrant ainsi une fenêtre unique sur les premières étapes de la nucléation et de la croissance des films.

En parallèle, le postdoctorant réalisera des dépôts et caractérisations, et développera des approches basées sur l’intelligence artificielle pour l’analyse de données et l’optimisation des procédés. Des modèles d’apprentissage automatique et profond seront entraînés afin de corréler les paramètres plasma, les analyses plasma et les propriétés des matériaux, permettant ainsi un contrôle prédictif des conditions de croissance pour atteindre une qualité optimale des films. Cette approche duale, combinant diagnostics physiques et modélisation pilotée par les données, établira un nouveau paradigme dans le traitement intelligent des couches minces.

Compétences requises

• Doctorat en physique des plasmas, science des matériaux ou domaine connexe.
• Expérience dans le dépôt de couches minces par plasma (PVD, CVD, pulvérisation, etc.).
• Connaissance pratique des diagnostics spectroscopiques (spectroscopie THz, ellipsométrie, spectroscopie d’émission, etc.).
• Intérêt ou expérience en intelligence artificielle, apprentissage automatique ou modélisation de procédés pilotée par les données.
• Expérience en traitement du signal ou en analyse de grands ensembles de données expérimentales appréciée.
• Autonomie, curiosité et motivation pour la recherche interdisciplinaire mêlant physique expérimentale des plasmas, science des matériaux et intelligence computationnelle.

Contexte de travail

Le/la candidat(e) aura accès aux infrastructures du LPICM et de l’École Polytechnique.

Contraintes et risques

NA