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Vishay Siliconix Itzehoe GmbH sucht eine/n R&D Process Development Engineer mit Schwerpunkt Wet Etch/CMP. Sie entwickeln moderne Power-MOSFET‑Prozesse im R&D‑Umfeld, arbeiten eng mit Process Integration zusammen und planen DOEs in der 300‑mm‑Fab.
Sie bringen Erfahrung in Wet‑Etch/CMP, CVD (SACVD) und Prozessintegration mit und nutzen MES/JMP für Datenanalysen. Englisch mindestens B2 ist erforderlich; Arbeitsort ist Itzehoe.
Wir sind auf der Suche nach großartigen Talenten, die uns beim Aufbau der DNA of tech® unterstützen. Vishay stellt eines der weltweit größten Portfolios an diskreten Halbleitern und passiven elektronischen Bauteilen her, die für innovative Designs in den Bereichen Automobil, Industrie, Computer, Endverbraucher, Telekommunikation, Militär, Luft- und Raumfahrt sowie Medizintechnik unerlässlich sind. Wir tragen dazu bei, dass die gefragtesten Technologien der Welt zum Leben erweckt werden. Jeden Tag berühren unsere Produkte Ihr Leben und das Leben von Menschen auf der ganzen Welt, auch wenn Sie es wahrscheinlich nicht wissen.
Kommen Sie zu uns und helfen Sie, die DNA of tech® zu entwickeln.
Die Vishay Siliconix Itzehoe GmbH ist ein Entwicklungs- und Produktionsstandort für Leistungstransistoren (Power MOSFET) mit über 550 Mitarbeitenden. Vishay investiert in Itzehoe in eine neue Halbleiter-Chip-Fabrik und erweitert damit künftig die Produktionskapazitäten.
Vishay bietet ein umfassendes Angebot an Benefits, darunter finanzielle Unterstützung und weitere Möglichkeiten, die Ihnen helfen, Ihre persönlichen und beruflichen Ziele zu erreichen. Zu unseren lokalen Benefits gehören tarifliche Vergütung nach Haustarifvertrag (ab 81.500 € Brutto‑Jahresgehalt), Urlaubsgeld, 13. Monatsgehalt und weitere Sonderzahlungen, betriebliche Altersvorsorge, Gleitzeit, mobiles Arbeiten sowie ein Langzeitkonto für bezahlte Auszeiten, Eurorad‑Fahrradleasing und Firmenfitness (EGYM Wellpass).
Vishay setzt sich für einen Arbeitsplatz ein, der frei von Belästigung und Diskriminierung ist. Bei der Einstellung und Beschäftigung gibt es keine Diskriminierung oder Belästigung aufgrund von Rasse, Hautfarbe, Alter, Geschlecht, sexueller Orientierung, Geschlechtsidentität und Ausdruck, ethnischer Zugehörigkeit oder nationaler Herkunft, Behinderung, Schwangerschaft, Religion, politischer Zugehörigkeit, Mitgliedschaft in einer Gewerkschaft, geschütztem Veteranenstatus, geschützten genetischen Informationen oder Familienstand.