Modélisation et Optimisation des Poudres par Plasma RF

CENTRALE LYON; Saint-Étienne; Sur place; EUR 32 000 - 46 000; Plein temps

Résumé du poste

Centrale Lyon ENISE recherche un post-doctorant pour développer un modèle de comportement des particules dans le plasma RF, visant la sphéroïdisation des poudres AlSi10Mg et la maîtrise des paramètres de procédé. Le travail associe modélisation, expérimentation et optimisation.

Le candidat mènera des simulations et des expériences pour réduire les pertes Mg et les dépôts de nanoparticules, en utilisant des instruments comme MEB et ICP‑AES, dans un cadre interdisciplinaire et international.

Qualifications

• Doctorat requis pour le poste.
• Solide formation en transferts thermiques et modélisation.
• Expérience souhaitée en plans d'expériences et en caractérisation des poudres.

Responsabilités

• Acquérir des connaissances sur le procédé de sphéroïdisation par plasma RF.
• Développer les modèles physiques du procédé.
• Mettre en œuvre une modélisation numérique et une stratégie d'optimisation multi-objectifs.
• Conduire et analyser les expérimentations sur TekSphero-40 et les caractérisations (MEB, ICP-AES).
• Collaborer entre modélisation et expérimentation pour valider les prédictions.

Connaissances

Transferts thermiques

Thermodynamique

Mécanique des fluides

Phénomènes de transport

Science des matériaux

Métallurgie

Modélisation physique

Méthodes numériques

Statistiques

Plans d'expériences

Formation

Doctorat

Outils

MATLAB

COMSOL

ICP-AES

MEB

Description du poste

Centrale Lyon ENISE recherche un post-doctorant pour développer un modèle de comportement des particules dans le plasma RF, visant la sphéroïdisation des poudres AlSi10Mg et la maîtrise des paramètres de procédé. Le travail associe modélisation, expérimentation et optimisation.

Le candidat mènera des simulations et des expériences pour réduire les pertes Mg et les dépôts de nanoparticules, en utilisant des instruments comme MEB et ICP‑AES, dans un cadre interdisciplinaire et international.