Ingénieur Process Gravure Plasma — Impact et Innovation

STMicroelectronics; Crolles; Sur place; EUR 48 000 - 65 000; Plein temps

Résumé du poste

STMicroelectronics, acteur mondial de la microélectronique, recherche un.e ingénieur.e Process Gravure plasma en CDD d'un an sur le site de France.

Rattaché au Responsable de l’atelier Process Gravure, vous assurez le support process, optimisez les performances des équipements et garantissez la qualité des produits.

Profil Bac+5, leadership et autonomie requis; anglais opérationnel; vous participerez à des projets d’amélioration continue et évolutifs.

Qualifications

• Bac+5 ingénieur, préférence sciences des matériaux / microélectronique / semiconducteur.
• Leadership et sens du relationnel multi-services.
• Polyvalence, rigueur et autonomie.
• Maîtrise des outils informatiques et de l’anglais opérationnel.

Responsabilités

• Suivre et gérer les activités de process gravure plasma.
• Garantir performances et disponibilité des équipements.
• Assurer la qualité des produits.
• Mettre en œuvre l’expertise technique sur le parc d’équipements.
• Former techniquement les techniciens et le personnel de production.
• Gérer des projets d’amélioration des performances équipements/procédés.
• Veiller au respect de la politique qualité et des règles sécurité/environnement.

Connaissances

Leadership

Polyvalence

Rigueur

Organisation

Anglais opérationnel

Informatique bureautique

Autonomie

Formation

Bac+5 ingénieur – science des matériaux / microélectronique / semiconducteur

Outils

Lean

Bureautique

Description du poste

STMicroelectronics, acteur mondial de la microélectronique, recherche un.e ingénieur.e Process Gravure plasma en CDD d'un an sur le site de France.

Rattaché au Responsable de l’atelier Process Gravure, vous assurez le support process, optimisez les performances des équipements et garantissez la qualité des produits.

Profil Bac+5, leadership et autonomie requis; anglais opérationnel; vous participerez à des projets d’amélioration continue et évolutifs.