Ingénieur Lithographie – Développement de Procédés

STMicroelectronics; Crolles; On-site; EUR 55,000 - 75,000; Full time

Job summary

STMicroelectronics, acteur mondial des semiconducteurs, recherche un/une ingénieur(e) process lithographie pour l’équipe Lithography à Crolles. Vous travaillerez sur des procédés variés en phase R&D, répondrez aux cahiers des charges et participerez à leur mise au point et optimisation.

Le poste est un CDD de 18 mois, avec transfert des procédés vers les équipes Engineering et collaboration avec les experts lithographie et les laboratoires externes, sur un parc i‑Line, 248nm, 193nm dry et

Qualifications

• Expérience d'ingénieur process en microélectronique souhaitée.
• Connaissances en lithographie et en techniques de mesure et de caractérisation.
• Capacité à travailler en équipe et à communiquer.
• Souci du détail et rigueur technique.

Responsibilities

• Répondre au cahier des charges des technologies en phase R&D du domaine lithographie.
• Mettre au point et optimiser les procédés de fabrication via des plans d'expérience.
• Caractéristiques et mesures (épaisseur, SEM, overlay, défectivité) et échanges avec l'équipe Métrologie.
• Transférer les procédés aux équipes Engineering lorsque maturité atteinte.
• Collaborer avec Process Intégration et les autres ateliers (Mask, Gravure, Dépôts) et les laboratoires externes.

Skills

Expérience ingénieur process microélé

Connaissances en lithographie

Techniques de mesure et de caractéris‑

Esprit d'équipe et collaboration

Tools

Équipements lithographie i‑Line

Équipements 248nm/193nm

Plan d'expérience (DOE)

Job description

STMicroelectronics, acteur mondial des semiconducteurs, recherche un/une ingénieur(e) process lithographie pour l’équipe Lithography à Crolles. Vous travaillerez sur des procédés variés en phase R&D, répondrez aux cahiers des charges et participerez à leur mise au point et optimisation.

Le poste est un CDD de 18 mois, avec transfert des procédés vers les équipes Engineering et collaboration avec les experts lithographie et les laboratoires externes, sur un parc i‑Line, 248nm, 193nm dry et