Etude du dépôt sélectif de SiO2 par PEALD H/F

CEA; Grenoble; Sur place; EUR 20 000 - 40 000; Plein temps

Résumé du poste

Un acteur majeur de la recherche recrute un stagiaire pour étudier le dépôt sélectif de SiO2 par PEALD au sein de son laboratoire à Grenoble. Ce stage de 6 mois, débutant vers février 2026, vous permettra de travailler avec des technologies avancées et d'acquérir des compétences précieuses en microélectronique. Autonomie, rigueur et esprit d'équipe sont essentiels pour réussir dans ce programme.

Qualifications

• Préparation d'un diplôme dans les domaines Matériaux, Microélectronique ou Physique – Chimie.
• Capacité à proposer des solutions et à travailler de manière autonome.
• Esprit d'équipe et rigueur requise.

Responsabilités

• Étudier le dépôt sélectif d'oxyde de silicium par PEALD.
• Évaluer l'intérêt du procédé pour des transistors avancés.
• Réalisations sur plateformes de nanocaractérisation.

Connaissances

Autonomie

Rigueur

Esprit de synthèse

Travail en équipe

Formation

Diplôme de niveau Master 2 ou école d'ingénieur

Outils

Ellipsométrie

XRR

AFM

FTIR

SEM

XPS

Tof-SIMS

Description du poste

Etude du dépôt sélectif de SiO2 par PEALD H/F

Détail de l'offre

Informations générales

Référence: 2025-37255

Entité de rattachement Le CEA est un acteur majeur de la recherche, au service des citoyens, de l'économie et de l'État.

Le CEA s'engage depuis plus de 75 ans au service de la souveraineté scientifique, technologique et industrielle de la France et de l'Europe pour un présent et un avenir mieux maîtrisés et plus sûrs. Implanté au cœur des territoires équipés de très grandes infrastructures de recherche, le CEA dispose d'un large éventail de partenaires académiques et industriels en France, en Europe et à l'international. Les 20 000 collaboratrices et collaborateurs du CEA partagent trois valeurs fondamentales :

• La conscience des responsabilités
• La coopération
• La curiosité

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Description de l'unité

Laboratoire de dépôts de matériaux avancés

En nous rejoignant, vous contribuerez au développement de matériaux couches minces utilisés dans l'industrie française et européenne de demain.

Description du poste

Sujet: Étude du dépôt sélectif de SiO2 par PEALD

Intitulé de l'offre: Etude du dépôt sélectif de SiO2 par PEALD H/F

Type d'offre: Stage

Contexte et objectifs :

Pour la microélectronique du futur, le dépôt sélectif localisé ou Area Selective Deposition (ASD) par dépôt de couches atomiques (ALD) pourrait permettre de simplifier les intégrations, par ex. dans les transistors FDSOI avancés. L’étude porte sur le dépôt d’oxyde de silicium (SiO2) sur Si ou SiO2 vs le nitrure de silicium (SiN), l’un des sujets les plus complexes en ASD, et l’évaluation de l’intérêt de ce procédé pour la réalisation de transistors FDSOI avancés.

Approches envisagées : rendre le SiN inhibiteur à la croissance du SiO2 via traitements plasma, Small Molecular Inhibitor, ou leurs combinaisons. Le dépôt sélectif de SiO2 sera réalisé par Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition (PEALD).

Ce stage de 6 mois se déroulera au CEA-LETI, service de dépôt de matériaux avancés. Le candidat aura accès aux plateformes de réalisation en salle blanche pour les dépôts de couches minces par PEALD et à la plateforme de nanocaractérisation. Des analyses de surface et caractérisations (ellipsométrie, XRR, AFM, FTIR, angle de contact, SEM, XPS, Tof-SIMS) permettront d’identifier la meilleure sélectivité.

Début du stage prévu vers février 2026 avec une possibilité de continuité en thèse.

Moyens / Méthodes / Logiciels

Plateformes technologiques de réalisation et de nanocaractérisation

Profil du candidat

Qu’attendons-nous de vous ?

Vous préparez un diplôme de niveau Master 2 ou école d'ingénieur en Matériaux / Microélectronique / Physique – Chimie.

Vous êtes force de proposition et faites preuve d'esprit de synthèse, d'autonomie, de rigueur et d'esprit d'équipe.

Rejoignez-nous, venez développer vos compétences et en acquérir de nouvelles !

Localisation du poste

France, Auvergne-Rhône-Alpes, Isère (38)