Verschicke keinen generischen Lebenslauf — erstelle einen Lebenslauf und ein Anschreiben, die genau auf diese Rolle zugeschnitten sind.
ZEISS Group in Deutschland sucht einen hochqualifizierten Experten im Bereich Metrology EUV, um seriennahe Messprozesse für Lithographieoptiken zu gestalten. Sie arbeiten eng mit interdisziplinären Teams zusammen und entwickeln neue Algorithmen zur Auswertung und Kalibrierung.
Sie verfügen über einen exzellenten Hochschulabschluss in Ingenieur- oder Naturwissenschaften, idealerweise mit Promotion, sowie fortgeschrittene Programmierkenntnisse (Python) und fließende Deutsch- und
Rund 80 Prozent aller Mikrochips weltweit werden mit ZEISS Technologien gefertigt. Als Herzstück eines jeden elektronisch gesteuerten Systems sind sie aus unserem Alltag nicht mehr wegzudenken – egal ob im Smartphone, im Smart Home oder in Smart Factories. ZEISS ist Technologieführer im Bereich Halbleiterfertigungs-Equipment. Mit hochpräzisen Lithographie-Optiken, Photomasken-Systemen und Lösungen für die Prozesskontrolle ermöglicht ZEISS die Herstellung von immer kleineren, leistungsfähigeren und energieeffizienteren Mikrochips – und prägt so mit seinen Innovationen das Zeitalter der Mikro- und Nanoelektronik entscheidend mit.
Sie möchten den Halbleitermarkt in einem interdisziplinären Umfeld mitgestalten? Begeistern sich für für Deeptech und Talent im Umgang mit Menschen? Im Bereich Metrology Processes der ZEISS Sparte Semiconductor Manufacturing gestalten wir gemeinsam die Zukunft der Halbleitertechnologie mit einzigartigen Messprozessen für die Fertigung hochgenauer Lithographie-Optiken. In der Gruppe Design & Algorithms EUV Systems der Abteilung Surface Figure Metrology EUV entwickeln, qualifizieren und implementieren wir Algorithmen für serientaugliche Formmessprozesse auf der Picometer Skala. Wir stehen für hohe Fachexpertise, starke Selbstverantwortung, ein unglaublich motivierendes Umfeld und eine Kultur des gemeinsamen Wachsens
Sie entwickeln, qualifizieren und verbessern serientaugliche Messprozesse mit höchsten Genauigkeitsanforderungen, um die Qualität von Lithographieoptiken sicherzustellen
Sie konzipieren und optimieren Messstrategien und Kalibrierverfahren für komplexe optische Messprozesse, um Nano- und Picometer Performance sicherzustellen
Sie entwickeln und implementieren Algorithmen zur Verbesserung der Auswertung, Kalibrierung und Korrektur bei interferometrischen Messverfahren und integrieren diese in den Fertigungsprozess
Sie analysieren die Leistung der Messprozesse sowohl experimentell als auch theoretisch, entwickeln Sie Verbesserungsmaßnahmen und koordinieren deren Umsetzung
Sie übernehmen die Leitung von Arbeitspaketen in diesem Bereich und sorgen Sie für eine erfolgreiche Umsetzung
Your ZEISS Recruiting Team:
Jonas Weickenmeier